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注意：因業(yè)務調整，暫不接受個人委托測試望見諒。

正膠顯影液測試技術分析

一、檢測樣品 本次測試的樣品為光刻工藝中常用的正性光刻膠顯影液，包括兩種不同品牌（A品牌與B品牌）的顯影液，取樣方式為隨機抽取同一生產批次的原裝密封樣品。

二、檢測項目 針對正膠顯影液的性能與安全性，本次測試涵蓋以下關鍵指標：

1. 顯影時間：評估顯影液對光刻膠的溶解效率。
2. 顯影殘留量：檢測顯影后基板表面殘留的未溶解物質。
3. pH值：驗證顯影液的酸堿穩(wěn)定性。
4. 金屬離子含量：分析鈉（Na?）、鉀（K?）等金屬離子的濃度。
5. 顆粒物濃度：確保顯影液無雜質污染。

三、檢測方法

1. 顯影時間測試 采用浸漬法，將涂覆正性光刻膠的硅片浸入顯影液中，記錄光刻膠完全溶解所需時間，重復3次取平均值。

2. 顯影殘留量測試 使用重量分析法，顯影后對硅片進行干燥處理，通過高精度分析天平測量顯影前后基板的重量差，計算殘留物質量。

3. pH值測試 采用電極法，使用經校準的pH計直接測量顯影液的酸堿度，測試環(huán)境溫度為25℃±1℃。

4. 金屬離子含量測試 通過電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）進行定量分析，樣品經稀釋過濾后上機檢測。

5. 顆粒物濃度測試 利用激光顆粒計數器對顯影液進行掃描，統(tǒng)計粒徑大于0.5μm的顆粒數量。

四、檢測儀器 本次測試使用的儀器包括：

• 恒溫槽：控制顯影液溫度（精度±0.5℃）。
• 分析天平：測量精度0.1mg（型號：ME-T系列）。
• pH計：高精度數字式pH計（品牌：METTLER TOLEDO）。
• ICP-MS儀：檢測金屬離子（型號：Agilent 7900）。
• 激光顆粒計數器：實時監(jiān)測顆粒物（分辨率：0.3μm）。

五、總結 通過對正膠顯影液的多維度測試，可全面評估其性能參數與質量穩(wěn)定性，為光刻工藝的良率控制提供數據支持。檢測結果將幫助企業(yè)優(yōu)化顯影液配方，提升半導體或顯示面板制造中的工藝可靠性。

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實驗儀器

測試流程

注意事項

1.具體的試驗周期以工程師告知的為準。

2.文章中的圖片或者標準以及具體的試驗方案僅供參考，因為每個樣品和項目都有所不同，所以最終以工程師告知的為準。

3.關于（樣品量）的需求，最好是先咨詢我們的工程師確定，避免不必要的樣品損失。

4.加急試驗周期一般是五個工作日左右，部分樣品有所差異

5.如果對于（正膠顯影液測試）還有什么疑問，可以咨詢我們的工程師為您一一解答。