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透射電鏡晶體結(jié)構(gòu)檢測是通過高能電子束穿透樣品,結(jié)合衍射與成像技術(shù)解析材料原子級排列的核心分析方法。該檢測對半導(dǎo)體、納米材料、合金研發(fā)等領(lǐng)域至關(guān)重要,能精準(zhǔn)揭示晶格缺陷、相變行為和界面結(jié)構(gòu),直接影響產(chǎn)品性能優(yōu)化、失效分析和新材料開發(fā)。通過三維重構(gòu)和原位觀測技術(shù),為材料設(shè)計提供不可替代的原子尺度數(shù)據(jù)支撐。
晶面間距測量,確定晶體中相鄰原子面的精確距離。
選區(qū)電子衍射分析,獲取微區(qū)晶體結(jié)構(gòu)的衍射圖譜。
高分辨晶格成像,直接觀察原子排列與晶格周期。
晶體取向標(biāo)定,確定晶?;蝾w粒的結(jié)晶學(xué)方向。
位錯密度統(tǒng)計,量化晶體缺陷對力學(xué)性能的影響。
晶界特征分析,表征多晶材料中晶界的類型與結(jié)構(gòu)。
孿晶界面觀測,識別晶體中對稱鏡像關(guān)系的形成區(qū)域。
相結(jié)構(gòu)鑒定,確認(rèn)材料中存在的物相組成。
層錯能計算,評估晶體中原子層錯排的能量狀態(tài)。
晶格常數(shù)測定,計算單胞的幾何參數(shù)與對稱性。
應(yīng)變場分布測繪,可視化局部晶格畸變程度。
析出相形貌表征,觀察第二相粒子的尺寸與分布。
界面原子匹配分析,研究異質(zhì)材料接觸面的原子鍵合。
晶體缺陷三維重構(gòu),立體呈現(xiàn)位錯網(wǎng)絡(luò)的空間構(gòu)型。
非晶/晶態(tài)轉(zhuǎn)化檢測,判定材料的有序-無序轉(zhuǎn)變過程。
電子能量損失譜分析,關(guān)聯(lián)晶體結(jié)構(gòu)與元素化學(xué)態(tài)。
納米束衍射,實現(xiàn)亞10nm區(qū)域的晶體結(jié)構(gòu)解析。
原位加熱觀測,記錄升溫過程中晶格動態(tài)演變。
原位拉伸測試,實時捕捉應(yīng)力誘導(dǎo)的晶體結(jié)構(gòu)變化。
輻照損傷評估,分析高能粒子轟擊后的晶格破壞。
量子點晶格匹配度,測量半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)的兼容性。
超晶格周期驗證,確認(rèn)人工周期結(jié)構(gòu)的層厚精度。
晶粒尺寸統(tǒng)計,量化多晶材料中晶粒的分布特征。
晶體對稱性判定,依據(jù)衍射花樣識別點群歸屬。
原子占位確定,解析合金中不同元素的晶格位置。
磁疇結(jié)構(gòu)成像,關(guān)聯(lián)晶體結(jié)構(gòu)與磁性能的對應(yīng)關(guān)系。
表面重構(gòu)分析,研究表層原子的周期性重排現(xiàn)象。
晶體生長機制研究,追蹤結(jié)晶過程中的原子堆疊方式。
相變路徑觀測,捕捉晶體結(jié)構(gòu)相變的中間態(tài)信息。
晶體學(xué)織構(gòu)分析,統(tǒng)計多晶體中晶粒的擇優(yōu)取向。
金屬單質(zhì)與合金,半導(dǎo)體量子點與薄膜,陶瓷材料,納米顆粒與線材,高分子晶體,礦物標(biāo)本,催化劑材料,高溫超導(dǎo)體,磁性材料,光伏材料,電池電極材料,金屬有機框架,碳納米管與石墨烯,生物礦物,金屬間化合物,形狀記憶合金,熱電材料,超硬涂層,核燃料顆粒,金屬玻璃,鈣鈦礦結(jié)構(gòu)材料,離子晶體,超晶格結(jié)構(gòu),納米多孔材料,二維過渡金屬硫化物,單晶硅晶圓,納米催化劑,醫(yī)用植入合金,壓電陶瓷,高溫合金葉片,納米藥物載體。
選區(qū)電子衍射法,通過光闌限制區(qū)域獲取局部晶體衍射信息。
高分辨透射成像法,利用相位襯度直接解析原子柱排列。
會聚束電子衍射法,測定晶體對稱性及厚度參數(shù)。
幾何相位分析法,精確量化晶格畸變與應(yīng)變分布。
暗場成像技術(shù),選擇性顯示特定晶向的晶體區(qū)域。
電子斷層重構(gòu)法,通過傾轉(zhuǎn)樣品重建三維晶體結(jié)構(gòu)。
能量過濾衍射法,結(jié)合元素分布分析晶體學(xué)特征。
原位環(huán)境電鏡法,實時觀察氣體或液體環(huán)境中的結(jié)構(gòu)演變。
納米束衍射技術(shù),實現(xiàn)納米尺度晶體結(jié)構(gòu)的空間分辨。
電子背散射衍射,統(tǒng)計大范圍晶粒取向分布信息。
動態(tài)衍射模擬法,通過軟件仿真驗證實驗結(jié)果。
旋進(jìn)電子衍射術(shù),消除多重衍射影響提高精度。
會聚束全息術(shù),記錄晶體勢場的相位信息。
洛倫茲電鏡法,觀測磁性材料的磁疇晶體結(jié)構(gòu)關(guān)聯(lián)。
電子通道襯度像,表征晶體缺陷的深度分布。
四維掃描衍射法,結(jié)合空間與動量信息重建應(yīng)變場。
相干衍射成像術(shù),利用相干性恢復(fù)相位丟失信息。
原子分辨率能譜法,同步獲取元素分布與晶格位置。
電子能量損失譜,分析特定原子位置的化學(xué)環(huán)境。
原位力學(xué)測試法,實時記錄應(yīng)力作用下的晶格響應(yīng)。
場發(fā)射透射電子顯微鏡,球差校正透射電鏡,掃描透射電子顯微鏡,雙束聚焦離子束系統(tǒng),電子背散射衍射探測器,能量色散X射線譜儀,電子能量損失譜儀,原位加熱樣品臺,原位拉伸樣品桿,低溫樣品臺,三維重構(gòu)軟件系統(tǒng),高靈敏度CCD相機,電子全息系統(tǒng),納米操縱器,會聚束電子衍射附件。
1.具體的試驗周期以工程師告知的為準(zhǔn)。
2.文章中的圖片或者標(biāo)準(zhǔn)以及具體的試驗方案僅供參考,因為每個樣品和項目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準(zhǔn)。
3.關(guān)于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。
4.加急試驗周期一般是五個工作日左右,部分樣品有所差異
5.如果對于(透射電鏡晶體結(jié)構(gòu)檢測)還有什么疑問,可以咨詢我們的工程師為您一一解答。
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