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鉑電阻漿料顆粒度測(cè)試

原創(chuàng)發(fā)布者:北檢院    發(fā)布時(shí)間:2025-08-12     點(diǎn)擊數(shù):

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注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試望見(jiàn)諒。

信息概要

鉑電阻漿料顆粒度測(cè)試是評(píng)估用于制造鉑電阻溫度傳感器關(guān)鍵材料質(zhì)量的核心檢測(cè)項(xiàng)目。鉑電阻漿料由微細(xì)鉑金屬顆粒、玻璃熔塊及有機(jī)載體組成,其顆粒的大小、分布及形貌直接決定了燒結(jié)后電阻膜的均勻性、導(dǎo)電性、熱穩(wěn)定性及最終傳感器的精度、穩(wěn)定性和壽命。精確的顆粒度檢測(cè)對(duì)于控制漿料流變性能、優(yōu)化印刷工藝、確保電阻膜微觀結(jié)構(gòu)致密均勻至關(guān)重要,是保障高性能、高可靠性鉑電阻溫度傳感器生產(chǎn)不可或缺的環(huán)節(jié)。本檢測(cè)服務(wù)通過(guò)先進(jìn)的設(shè)備與方法,提供全面、客觀的顆粒特性數(shù)據(jù),為產(chǎn)品研發(fā)、質(zhì)量控制及工藝改進(jìn)提供科學(xué)依據(jù)。

檢測(cè)項(xiàng)目

體積平均粒徑(D[4,3]):表征顆粒體積加權(quán)的平均尺寸。

數(shù)量平均粒徑(D[1,0]):基于顆粒數(shù)量統(tǒng)計(jì)的平均粒徑。

表面積平均粒徑(D[3,2]):基于顆粒表面積計(jì)算的粒徑平均值。

D10:累積分布中10%顆粒小于或等于該粒徑值。

D50:累積分布中50%顆粒小于或等于該粒徑值,即中位粒徑。

D90:累積分布中90%顆粒小于或等于該粒徑值。

D97:累積分布中97%顆粒小于或等于該粒徑值。

粒徑分布寬度(SPAN):衡量分布寬窄程度,(D90-D10)/D50。

粒徑分布均勻性:評(píng)估顆粒大小集中程度。

顆粒圓形度:表征顆粒接近理想圓形的程度。

顆粒長(zhǎng)徑比:顆粒最長(zhǎng)軸與最短軸之比。

顆粒輪廓復(fù)雜度:描述顆粒邊緣的復(fù)雜程度。

比表面積:?jiǎn)挝毁|(zhì)量顆粒的總表面積。

團(tuán)聚體數(shù)量占比:漿料中團(tuán)聚顆粒所占的比例。

最大顆粒尺寸:樣品中可檢測(cè)到的單一顆?;驁F(tuán)聚體的最大尺寸。

亞微米顆粒比例:粒徑小于1微米的顆粒所占百分比。

大顆粒比例:超過(guò)特定閾值(如D95)的顆粒所占百分比。

顆粒濃度:?jiǎn)挝惑w積漿料中顆粒的數(shù)量。

顆粒沉降速率分布:不同粒徑顆粒在重力場(chǎng)中的沉降行為。

Zeta電位:表征顆粒分散穩(wěn)定性的表面電荷參數(shù)。

顆粒形貌分類:球形、片狀、針狀等不同形狀顆粒的統(tǒng)計(jì)。

粒度分布模型擬合優(yōu)度:評(píng)估實(shí)測(cè)分布與理論模型的吻合度。

顆粒透明度:影響光學(xué)檢測(cè)的顆粒透光特性。

折射率匹配度:顆粒與分散介質(zhì)折射率差異影響光學(xué)測(cè)量精度。

顆??紫堵剩?jiǎn)蝹€(gè)顆粒內(nèi)部孔隙體積占比。

顆粒密度:?jiǎn)蝹€(gè)顆粒的真實(shí)密度。

振實(shí)密度:顆粒在振動(dòng)后的堆積密度。

分散度:評(píng)估顆粒在介質(zhì)中分散的均勻程度。

團(tuán)聚強(qiáng)度:表征團(tuán)聚體抵抗外力破碎的能力。

顆粒表面粗糙度:顆粒表面微觀結(jié)構(gòu)的起伏程度。

顆粒結(jié)晶度:影響導(dǎo)電及燒結(jié)行為的晶體結(jié)構(gòu)特性。

顆粒元素分布均勻性:鉑及其他元素在顆粒內(nèi)外的分布情況。

檢測(cè)范圍

高純鉑電阻漿料,中溫?zé)Y(jié)鉑漿,低溫?zé)Y(jié)鉑漿,高溫?zé)Y(jié)鉑漿,厚膜鉑電阻漿料,薄膜鉑電阻漿料用前驅(qū)體漿料,可印刷鉑漿,可噴涂鉑漿,絲網(wǎng)印刷鉑漿,微筆直寫鉑漿,玻璃封裝鉑漿,陶瓷基板用鉑漿,聚合物基板用鉑漿,氧化鋁基板用鉑漿,氧化鋯基板用鉑漿,硅基板用鉑漿,不銹鋼基板用鉑漿,片式鉑電阻漿料,線繞替代型鉑漿,高阻值鉑漿,低阻值鉑漿,高TCR鉑漿,耐高溫鉑漿,高穩(wěn)定性鉑漿,快速響應(yīng)鉑漿,汽車傳感器用鉑漿,醫(yī)療設(shè)備用鉑漿,工業(yè)控溫用鉑漿,航空航天用鉑漿,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備用鉑漿,家用電器用鉑漿,可穿戴設(shè)備用鉑漿,柔性傳感器用鉑漿,納米鉑粉漿料,微米鉑粉漿料,亞微米鉑粉漿料,鉑復(fù)合導(dǎo)電漿料

檢測(cè)方法

激光衍射法:利用顆粒對(duì)激光的散射角分布反演粒度分布,適用于寬范圍快速測(cè)量。

動(dòng)態(tài)光散射法:通過(guò)分析溶液中顆粒布朗運(yùn)動(dòng)引起的散射光波動(dòng)測(cè)量亞微米及納米顆粒粒徑。

靜態(tài)光散射法:測(cè)量不同角度下的散射光強(qiáng)度以獲取粒度信息。

圖像分析法:顯微鏡或電鏡拍攝顆粒圖像,通過(guò)軟件分析粒徑、形貌及分布。

掃描電子顯微鏡法:高分辨率觀察顆粒表面形貌、尺寸及團(tuán)聚狀態(tài)。

透射電子顯微鏡法:觀察顆粒內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精確測(cè)量納米級(jí)粒徑。

離心沉降法:依據(jù)斯托克斯定律,測(cè)量顆粒在離心力場(chǎng)中的沉降速度計(jì)算粒徑分布。

重力沉降法:在重力場(chǎng)中根據(jù)沉降速度測(cè)定顆粒大小。

電感應(yīng)區(qū)域法:顆粒通過(guò)小孔時(shí)引起電阻變化,脈沖大小對(duì)應(yīng)顆粒體積。

X射線小角散射法:利用X射線在納米顆粒上的散射特性測(cè)定粒度及分布。

X射線衍射法:通過(guò)衍射峰寬化效應(yīng)估算晶粒尺寸。

超聲衰減譜法:測(cè)量超聲波通過(guò)懸浮液時(shí)的衰減譜反演顆粒粒度。

庫(kù)爾特計(jì)數(shù)器法:基于電感應(yīng)原理精確計(jì)數(shù)和測(cè)量顆粒體積。

氮?dú)馕椒ǎ和ㄟ^(guò)BET理論計(jì)算比表面積,間接反映顆粒細(xì)度。

動(dòng)態(tài)圖像分析法:實(shí)時(shí)流動(dòng)狀態(tài)下捕捉并分析顆粒圖像。

靜態(tài)圖像分析法:靜態(tài)放置樣品于載物臺(tái)上進(jìn)行圖像采集分析。

光子相關(guān)光譜法:即動(dòng)態(tài)光散射法的別稱。

場(chǎng)流分離法:結(jié)合場(chǎng)流分離技術(shù)和檢測(cè)器,分離并測(cè)量復(fù)雜樣品粒徑。

共振質(zhì)量測(cè)量法:利用微懸臂梁共振頻率變化測(cè)量單個(gè)顆粒質(zhì)量。

原子力顯微鏡法:高分辨率掃描顆粒表面,三維形貌重建及尺寸測(cè)量。

拉曼光譜顆粒分析:結(jié)合拉曼光譜與圖像進(jìn)行化學(xué)成分與粒徑同步分析。

電聲法:測(cè)量超聲波在電聲場(chǎng)中產(chǎn)生的電信號(hào)分析粒度與Zeta電位。

濁度法:通過(guò)懸浮液濁度變化定性或半定量評(píng)估顆粒濃度及大小。

聚焦光束反射測(cè)量法:實(shí)時(shí)在線測(cè)量流動(dòng)懸浮液中顆粒粒徑及濃度。

檢測(cè)儀器

激光粒度分析儀,動(dòng)態(tài)光散射儀,掃描電子顯微鏡,透射電子顯微鏡,圖像分析系統(tǒng),離心沉降粒度儀,重力沉降粒度儀,庫(kù)爾特計(jì)數(shù)器,X射線衍射儀,比表面積及孔隙度分析儀,納米粒度及Zeta電位分析儀,超聲粒度分析儀,場(chǎng)流分離儀,原子力顯微鏡,X射線小角散射儀,動(dòng)態(tài)圖像分析儀,靜態(tài)圖像分析儀,拉曼光譜儀,電聲光譜儀,聚焦光束反射測(cè)量?jī)x

實(shí)驗(yàn)儀器

實(shí)驗(yàn)室儀器 實(shí)驗(yàn)室儀器 實(shí)驗(yàn)室儀器 實(shí)驗(yàn)室儀器

測(cè)試流程

鉑電阻漿料顆粒度測(cè)試流程

注意事項(xiàng)

1.具體的試驗(yàn)周期以工程師告知的為準(zhǔn)。

2.文章中的圖片或者標(biāo)準(zhǔn)以及具體的試驗(yàn)方案僅供參考,因?yàn)槊總€(gè)樣品和項(xiàng)目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準(zhǔn)。

3.關(guān)于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。

4.加急試驗(yàn)周期一般是五個(gè)工作日左右,部分樣品有所差異

5.如果對(duì)于(鉑電阻漿料顆粒度測(cè)試)還有什么疑問(wèn),可以咨詢我們的工程師為您一一解答。

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